设备名称：
CEW-2000型半轴荧光磁粉探伤机
概述：
CEW-2000型半轴荧光磁粉探伤机系机电一体式半自动荧光磁粉探伤设备，由电源控制系统、夹持磁化系统、磁悬液系统、荧光系统等几大部分组成。适用于以湿式磁粉法检测由铁磁性材料制成的小型管、轴棒类等零件的表面及近表面因铸造、锻造、加工、疲劳等各种原因引起的裂纹和各种细微缺陷。
本设备采用手动、自动两种运行方式，由可编程控制器（PLC）集中控制。手动时，可进行每个功能的单步独立操作；自动时，设备自动执行PLC内部程序，工件上料到位夹紧后，按“启动”键即可自动执行转动喷淋——磁化——转动观察等一系列动作。周向磁化采用直接通电，纵向磁化采用两组线圈，具有良好的磁化效果。复合磁化在工件上形成旋转磁场，一次性显示磁迹，具有较高的工作效率。
主要技术参数：
1、 周向磁化电流：AC 0-2000A有效值，连续可调；
2、 纵向磁化磁势：AC 0-12000AT有效值，连续可调，
DC 0-6000AT半波两倍于平均值, 连续可调；
3、 磁化灵敏度：15/50A 1型试片显示清晰；
4、 暂载率：≥30%；
5、 电极间距： 400-1100mm，连续电动可调；
6、 工作方式：手动、自动运行；
7、 磁化方式：周向、纵向、复合磁化；
8、 电极间距调整方式：电动；
9、 夹紧方式：气动；
10、 退磁方式：自动衰减式退磁；
11、 周向退磁电流：AC 2000-0A，有效值，连续可调，
纵向退磁磁势：AC 12000-0AT，有效值，连续可调，
DC 6000-0AT，平均值，连续可调；
12、 交流充退磁效果：≤160A/M（0.2mT）；
13、 紫外线强度：距光源380mm工件表面处≥1000μW/㎝²；
14、 电源：三相四线380V±10% 50HZ *瞬时100A；
15、 外形尺寸：2200（长）×700（宽）×1600（高）mm；
16、 重量：约1000Kg。
探伤原理探伤原理：
周向磁化采用直接通电，电流沿工件轴向通过，在工件上产生周向磁场，假如存在与磁通线相交的裂纹或近表面缺陷，则在裂纹两侧立即产生N和S两磁极，部分磁通进入附近的空间，形成能吸附磁粉和裂纹指示的泄漏磁通场，由此可检测工件上的纵向裂纹。用线圈法对工件纵向磁化，产生轴向磁场，同理，可检测工件上的周向裂纹。同时施加周向和纵向磁化电流，即复合磁化，在工件表面和近表面形成交变的旋转的矢量磁场，在连续法探伤检查时，可检测工件表面和近表面各个方向的裂纹和缺陷。
